Шанхайский стартап Langdao Silex, разрабатывающий источники света для экстремальной ультрафиолетовой литографии, впервые представил прототип системы EUV-источника света на выставке China International Industry Fair 2026, проходящей в Национальном выставочном и конференц-центре в Шанхае. Сотрудники стенда сообщили, что серийное производство начнется через три-пять лет.
Источник света является одним из ключевых компонентов EUV-сканера — инструмента, используемого для создания микросхем с нормами 7 нм и ниже. По данным Jiefang Daily, на которые ссылается IT Home, около 90% деталей прототипа произведены в Китае, большинство основных компонентов разработаны собственными силами, а система использует тот же подход лазерно-производимой плазмы (LPP), что и ведущие поставщики в этой области. Сотрудники отметили, что он уже может использоваться для испытаний на экспонирование.
На веб-сайте компании перечислены несколько EUV-продуктов. Серия маломощных источников FlintNano-LPP описана как находящаяся на стадии коммерциализации, в то время как серия высокомощных FlintMicro-LPP завершила этап доказательства принципа. Опубликованные спецификации системы FlintNano LPP-OXXO включают приводной лазер мощностью 1000 Вт, работающий на частоте от 1 до 20 кГц, коэффициент преобразования выше 2%, выходную мощность EUV более 15 Вт, непрерывную работу более 100 часов, размер плазмы 60 микрометров, стабильность плазмы 3% RMS и стабильность энергии 5%.
Эта выходная мощность далека от того, что требуется для производственного литографического оборудования. Коммерческие EUV-сканеры нуждаются в источнике мощностью в сотни ватт, надежно работающем в течение длительного времени. Сотрудники стенда заявили, что основные задачи сейчас — повышение выходной мощности и улучшение долгосрочной стабильности. Прототип демонстрирует работоспособность выбранного технического решения, но пока не является продуктом, достаточно зрелым для промышленного использования.
Компания Langdao Silex была основана в 2024 году. Основатель Ван Хао и его команда опираются на исследования лаборатории плазмы газового разряда Университета Цинхуа. Помимо EUV-источников света, компания разрабатывает высокомощные газодинамические лазеры на углекислом газе, которые используются для привода LPP-источников, а также программное обеспечение для моделирования плазмы.
На выставке также было представлено более сотни других технологических проектов от шанхайских научно-исследовательских институтов и компаний.
СМ. ТАКЖЕ:Начинает формироваться отечественная экосистема EUV-метрологии Китая
Всегда имейте в виду, что редакции могут придерживаться предвзятых взглядов в освещении новостей.
Автор – Pandaily
