Китай тайно разработал и тестирует прототип установки для EUV-литографии, используя технологию ASML. Несмотря на генерацию EUV-излучения, система пока не способна производить чипы и, по оценкам, отстает на годы от полного производственного цикла. Успех зависит от обратного инжиниринга и привлечения иностранных специалистов.