Новости: ASML

ASML намекает на повышение цен на Low-NA EUV-сканеры из-за роста их производительности. Узнайте, как это ударит по стратегии TSMC, сделавшей ставку на существующие литографические системы, и изменит расклад сил в полупроводниковой индустрии.

ASML намекает на повышение цен на Low-NA EUV-сканеры, несмотря на недовольство TSMC. Узнайте, как планы производителя повлияют на стоимость чипов и стратегию крупнейшего заказчика.

Глава TSMC сравнил выбор техпроцесса с покупкой молока, заявив, что это сложный пятилетний процесс. Он признал зависть к доходам Samsung Foundry, но подчеркнул, что ключ к успеху — доверие клиентов и технологии, а не господдержка.

Intel первой в мире запустила серийное производство чипов Panther Lake на техпроцессе 18A с использованием литографии High NA EUV от ASML. Узнайте, как эта технология ускоряет разработку ИИ и меняет рынок полупроводников, опережая планы TSMC.

Как заявлял генеральный директор ASML Кристоф Фуке TechCrunch в мае, Китай в настоящее время может приобретать инструменты глубокого ультрафиолета старого поколения — оборудование, впервые поставленное около десяти лет назад, — те самые машины, которые Акт MATCH теперь сделает недоступными.

Министр торговли США Лютник выражает озабоченность в беседе с руководством ASML по поводу наличия у Китая системы литографии EUV, в то время как ASML отрицает поставку таких сканеров в КНР. — tomshardware.com

Министр торговли США Говард Лутник выразил обеспокоенность руководству ASML по поводу попадания передовых машин для производства чипов в Китай. Эти машины EUV, использующие экстремальный ультрафиолет, стали предметом внимания США. ASML отрицает поставки, заявляя о легкой отслеживаемости оборудования. — wccftech.com

Существует коммерческая логика, которая противоречит идее о том, что ASML рискнет своей экспортной лицензией, чтобы вооружить китайского клиента. Обвинения в поставках EUV-оборудования в Китай. — techcrunch.com

К настоящему времени все знакомы с ASML, единственным поставщиком EUV-литографии. По мере развития гиперскейлеров выявляются новые узкие места в ИИ-инфраструктуре, главное из которых — мощность EUV для производства пластин на передовых нормах. ASML предлагает High-NA и Hyper-NA как решение. — wccftech.com

ASML подтвердила, что группа недовольных сотрудников выступает против приглашения Илона Маска выступить на закрытой техконференции компании в Ден-Боше из-за его политической деятельности. — tomshardware.com