Новости: euv-литография
ASML игнорирует технологию производства чипов на основе ускорителя частиц, поддерживаемую Илоном Маском
ASML не спешит внедрять лазеры на свободных электронах (FEL) для EUV-литографии, несмотря на их потенциал. Компания продолжает совершенствовать собственные LPP-источники света, увеличивая их мощность и частоту генерации капель олова. Узнайте, почему FEL пока не готовы конкурировать с LPP в массовом производстве.

Согласно отчёту, средняя стоимость пластин TSMC росла более чем на 15% ежегодно с 2019 года.
В 2019 началась эра EUV-литографии в производстве чипов, и нет признаков остановки, так как техпроцессы усложняются. Цены TSMC растут быстрее затрат, клиенты не уходят к другим производителям. Почему так происходит? Анализ доминирования TSMC на рынке полупроводников и перспектив на будущее.

Доклад: Китай мог методом обратного инжиниринга в секретной лаборатории воссоздать установку для EUV‑литографии — сотрудникам выдавали поддельные удостоверения, чтобы проект остался незамеченным; прототипы ожидаются в 2028 году
Китай тайно разработал и тестирует прототип установки для EUV-литографии, используя технологию ASML. Несмотря на генерацию EUV-излучения, система пока не способна производить чипы и, по оценкам, отстает на годы от полного производственного цикла. Успех зависит от обратного инжиниринга и привлечения иностранных специалистов.

Самое просматриваемое:
- Вот как использовать новую кнопку “Плюс”…
- Bitcoin Depot оштрафован на $18,5 млн – сталкивается…
- WatchGuard бьёт тревогу: критическая уязвимость…
- Оверклокер обновил утилиту для разгона Hydra —…
- Как настроить ComfyUI для генерации изображений ИИ…
- Результаты еженедельного опроса: Samsung Galaxy Z…
- ECARX берет управление бизнесом Flyme OS в свои руки…
- Intel преодолела рубеж в миллион пластин,…
- США прикрыли платформу для хранения паролей, которой…
- Исследователи из MIT возродили 40-летнюю концепцию…

