На 26-й Китайской международной промышленной ярмарке в Шанхае китайский технологический стартап Langdao Silex представил прототип источника EUV-излучения собственной разработки под названием «FlintNano LPP-OXXO». Компания заявляет, что, будучи ключевым компонентом EUV-литографии, она обеспечила большинство основных компонентов за счет собственных исследований и разработок, достигнув уровня локализации около 90%. Эта новость может сигнализировать о готовности Китая отказаться от ASML, но вот почему не стоит спешить с выводами.
Массовое производство ожидается не ранее чем через 3-5 лет, и это, скорее всего, оптимистичный прогноз; ASML больше беспокоят торговые ограничения США
Прототип Langdao Silex использует технологию лазерно-плазменного излучения (LPP), которая генерирует плазму с помощью мощных лазеров для получения EUV-излучения. Это тот же технический подход, который используют ASML и другие компании. Согласно техническим характеристикам, представленным компанией, выходная мощность управляющего лазера составляет 1000 Вт, частота повторения — 1–20 кГц, а эффективность преобразования превышает 2 процента.
Выходная мощность EUV составляет 15 Вт или выше, с возможностью непрерывной работы более 100 часов. Размер плазмы — 60 мкм, стабильность плазмы — 3% RMS, а стабильность энергии — около 5%. Представители стартапа упомянули, что текущая система работает на уровне, пригодном для тестирования экспозиции пластин. К сожалению, когда речь заходит о массовом производстве, которое станет настоящим испытанием, это совсем другая история, и ASML может не особо беспокоиться.
Langdao Silex прогнозирует, что для крупномасштабного коммерческого производства потребуется 3-5 лет, и это несколько оптимистичный взгляд. Ранее мы сообщали о том, что Китай работает над прототипами EUV, а пробное производство началось уже в третьем квартале 2025 года, что открывает путь к потенциально прорывным технологиям и снижает зависимость от таких компаний, как ASML, и тех, кто находится под влиянием США. К сожалению, текущее оборудование DUV Китая не может конкурировать с голландской фирмой, что означает, что срок, упомянутый Langdao Silex, возможно, придется продлить до 8-10 лет, при условии, что все будет развиваться гладко.
Помимо прототипа источника EUV-излучения, для создания оборудования для EUV-литографии необходимо преодолеть множество проблем, начиная от сверхточной оптики, станин для пластин и сложных технологий системной интеграции. Оборудование EUV от ASML состоит из сотен тысяч компонентов, поставляемых более чем 800 компаниями-партнерами, поэтому, хотя источник EUV-излучения и является сигналом о движении Китая в правильном направлении, он еще далеко не способен заменить ASML.
На самом деле, самая большая проблема ASML — это даже не ускорение Китаем разработок собственного оборудования, а то, будут ли США вводить новые ограничения на поставки оборудования DUV в регион, отрезая огромный источник дохода, который составляет 20% годовых продаж ASML. Ограничение вариантов для Китая может подстегнуть его желание ускорить эти усилия, но генеральный директор Zeiss считает, что стране потребуется 15 лет, чтобы достичь этой цели в области западных EUV-чиповых технологий.
Всегда имейте в виду, что редакции могут придерживаться предвзятых взглядов в освещении новостей.
Автор – Omar Sohail
