DIGINEWS

Новости: фоторезист

Шанхайская лаборатория ИИ совершила прорыв в создании фоторезиста для чипов с помощью ИИ-платформы для R&D

Шанхайская лаборатория ИИ и университетские партнеры разработали фоторезистную смолу KrF высокой чистоты с использованием синтетической платформы на базе ИИ, достигнув показателей консистенции партий, соответствующих стандартам полупроводникового производства, и начав валидацию с Hengkun New Materials. — pandaily.com

ии фоторезист Krf полупроводники синтез ниокр pandaily.com
ИИ
13.05.2026
Pandaily

krf, pandaily.com, ИИ, ниокр, полупроводники, синтез, фоторезист

IBM и Lam Research объединились для разработки сухого фоторезиста High NA EUV, чтобы преодолеть порог 1 нм в производстве чипов

IBM и Lam Research объявили о пятилетнем сотрудничестве для разработки материалов и процессов для масштабирования логических чипов за пределы 1 нм с использованием High NA EUV. Обе компании сотрудничают более десяти лет, при этом IBM в 2021 году представила первый в мире чип по техпроцессу 2 нм. — tomshardware.com

Ibm Lam Research Euv High Na фоторезист техпроцесс tomshardware.com
Новости цифры
11.03.2026
Luke James

euv, high na, IBM, lam research, tomshardware.com, техпроцесс, фоторезист

Новый метод термообработки imec ускоряет производство EUV-чипов, увеличивая выпуск самых передовых процессоров

Повышение концентрации кислорода на этапе постобработки (PEB) EUV-литографии может увеличить производительность фоторезиста на 15–20% согласно результатам imec. — tomshardware.com

Euv-литография фоторезист Imec Peb фотоскорость Mor tomshardware.com
Новости цифры
27.02.2026
Anton Shilov

euv-литография, imec, mor, peb, tomshardware.com, фоторезист, фотоскорость