Новости: ИИ

Сэм Альтман считает, что оперативная память в вашем игровом ПК должна быть отдана дата-центрам. Узнайте, почему критики в ярости, как это заявление связано с дефицитом DRAM, ростом цен на технику и планами OpenAI превратить железо в подписку. Читайте подробный разбор!

OpenAI объединяет чат и работу в ChatGPT для удобства пользователей. После изменений ChatGPT и Codex будут использовать общий пул токенов.

Nvidia может предоставить миллиарды в виде кредитных гарантий для проекта дата-центра Nscale мощностью 460 МВт для Anthropic. Поддержка превысит $5 млрд, обеспечивая финансирование строительства.

Южнокорейский стартап FuriosaAI привлек $620 млн, оценив себя в $2,9 млрд. Средства пойдут на расширение производства чипов RNGD, развитие ПО и ускорителя ИИ третьего поколения.

Qwenputer — экспериментальная LLM Qwen 3.5 4B с интегрированным 32-битным процессором RISC-V. Запускает код на C/MicroPython, выполняет арифметические операции и даже Doom, преодолевая слабости LLM.

Гендиректор SpaceX Маск опубликовал мем в X, высмеивающий Альтмана из OpenAI за его мнение, что ОЗУ в домашних ПК — это «довольно ужасно». Альтман считает, что память нужнее дата-центрам ИИ, но это заявление вызвало критику на фоне роста цен на комплектующие.

Tencent Cloud представила WAND-Vega, Real-time Intelligence и голосового агента для контакт-центра. WAND обслуживает более 2000 компаний, ежедневно генерируя 4,5 млн изображений и 3 млн секунд видео.

LongCat-2.5 от Meituan — 1,6 трлн параметров, 48 млрд активных на токен. Мультимодальная модель для задач с длительным горизонтом, улучшенное визуальное понимание и агентное кодирование. Оптимизирована для инференса W4A4 на отечественных чипах.

Данные для инференса ИИ в Китае впервые превысили данные для обучения. Ежедневные запросы токенов достигли 175 трлн к июню 2026 года, что в 1000 раз больше, чем в начале 2024 года. ИИ переходит к промышленному использованию.

Исследование CASIA для IROS 2026: имитационное обучение для подвода и тактильно-усиленное обучение с подкреплением для вставки деталей. Успешность при зазоре 0,05 мм выросла с 52% до 67%, пиковая сила контакта снизилась на 60%.