Государственная компания в Шанхае начала массовое производство иммерсионных машин глубокой ультрафиолетовой литографии (immersion DUV) и должна поставить первые устройства в этом году компаниям SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителю памяти ChangXin Memory Technologies, сообщает The Information со ссылкой на двух человек, знакомых с программой. Целевой выпуск составляет около пяти машин в 2026 году и примерно 20 в 2027 году, и все три названных получателя входят в список китайских компаний, которые законопроект, проходящий сейчас через Конгресс, отрезал бы от продаж и обслуживания ASML по закону. The Information не назвала производителя, но её источники описали, что эта организация собрала команды по разработке DUV из нескольких китайских компаний, одной из которых является государственный стартап Shanghai Yuliangsheng Technology. SMIC тестирует иммерсионный инструмент Yuliangsheng с сентября 2025 года. Большинство компонентов в новых системах отечественные, хотя некоторые критически важные детали по-прежнему поступают из Японии, а задержки у местных поставщиков сдерживают выпуск в этом году. Резолюция Палаты представителей США 8170 определяет SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei и YMTC как ограниченные субъекты по закону, и три из этих пяти компаний являются первыми названными заказчиками отечественного сканера. MATCH Act, внесённый в апреле, был вынесен из комитета по иностранным делам Палаты представителей 22 апреля и имеет аналог в Сенате под номером S. 4281. Его положения касаются не только новых поставок, но и обслуживания и технической помощи для иммерсионных DUV-систем, что расширяет его охват на уже установленные инструменты, работающие на китайских фабриках, которые за последние два года расширяли этот установленный парк за счёт модернизации через вторичные каналы. ASML ожидает поставить около 130 иммерсионных систем в 2026 году, что соответствует уровню 2025 года, сообщил финансовый директор Роджер Дассен (Roger Dassen) аналитикам во время июльского отчёта компании. Дассен добавил, что ASML намерена «увеличить мощность на 30% в 2027 году» для иммерсионных систем и изучает возможность ещё 30% в 2028 году. На долю Китая приходится около 20% чистой выручки ASML в этом году, что ниже 33% в 2025 году, в основном за счёт спроса на логические микросхемы массового рынка. Иммерсионная DUV печатает элементы класса 28 нм за одно экспонирование и достигает 7 нм с помощью мультипаттернинга, ценой ошибок совмещения и снижения выхода годных. Генеральный директор ASML Кристоф Фуке (Christophe Fouquet) сообщил на том же звонке, что растущая интенсивность литографии DRAM отчасти отражает замену клиентами мультипаттернинга на более дешёвое одноэкспозиционное EUV. Независимый анализ от AI Futures Project в июне оценил коммерческое масштабирование китайской иммерсионной DUV на середину 2030-х годов, при этом ASML удерживает 98,7% рынка иммерсионных систем. Квалификация новых машин для производственных линий может занять много месяцев, и они отстают от инструментов ASML по производительности и качеству сборки. Китайские усилия по созданию отечественного EUV, о которых Reuters впервые сообщил как о работающем прототипе в декабре, остаются за годами.
Всегда имейте в виду, что редакции могут придерживаться предвзятых взглядов в освещении новостей.
Автор – Luke James
