Компания ASML подтвердила, что Intel использует её технологию High NA EUV для производства чипов Panther Lake на самом передовом техпроцессе 18A.
High NA EUV от ASML выходит на серийное производство логических микросхем с чипами Intel «18A» Panther Lake
Сегодня ASML объявила, что её первое оборудование High NA EUV «EXE» установлено на предприятии Intel Foundry и используется для создания первых продуктов Panther Lake на техпроцессе 18A. Первая из этих литографических машин High NA EUV была установлена на исследовательском полигоне в Хилсборо, штат Орегон, ещё в 2024 году, что сделало Intel первой компанией, установившей и прошедшей приёмочные испытания TWINSCAN EXE:5200B второго поколения.
Процессоры, изготовленные по технологии High NA EUV, уже выпускаются серийно, причём отдельные слои техпроцесса 18A теперь прошли двойную квалификацию на оборудовании High NA EUV в Орегоне. Сообщается, что производительность машин EXE от ASML в условиях массового выпуска соответствует показателям платформы NXE.
По сути, Intel сейчас использует High-NA в производстве своего самого передового продукта. Это означает, что некоторые продукты, которые вы сегодня покупаете у Intel, были созданы с помощью машины High-NA. Это, безусловно, очень важная веха. Это доказательство зрелости инструмента. Мы много говорили об этом в прошлом квартале. Мы видим, что это происходит со всеми заказчиками, и поэтому ожидаем вступить в обсуждение со всеми нашими клиентами о том, как именно и когда именно инструмент будет внедрён в массовое производство.
Кристоф Фуке, президент и генеральный директор ASML
По данным Intel, технология High NA EUV применяется для подмножества чипов Intel Core Ultra Series 3, имеющих кодовое название Panther Lake. ASML называет это первым «серийным логическим продуктом» на High NA EUV, что должно подготовить почву для дальнейшего внедрения технологии.
Эта веха отражает тесное техническое сотрудничество между Intel и ASML и показывает, как High NA EUV может быть интегрирована в передовое полупроводниковое производство в масштабе. Квалифицировав опцию процесса High NA EUV на отдельных слоях продукта Intel 18A, наш существующий парк инструментов обеспечивает заказчикам повышенную производительность, пока мы разрабатываем будущие опции для достижения передовых показателей производительности, плотности и гибкости производства на будущих техпроцессах.
Нага Чандрасекаран, исполнительный вице-президент и генеральный менеджер Intel Foundry
Самый важный вывод заключается в том, что Intel стала первой в серийном производстве с использованием High NA EUV, в то время как TSMC рассматривает возможность применения high-NA EUV примерно в 2029 году. Эта технология необходима для точного формирования рисунка при производстве передовых микросхем. Более мелкие и плотные структуры ускорят развитие ИИ и других новых технологий, заявил Кристоф Фуке (президент и генеральный директор ASML).
Кроме того, использование High NA EUV также открывает путь для применения этой технологии в будущих техпроцессах в соответствии с требованиями заказчиков.
Всегда имейте в виду, что редакции могут придерживаться предвзятых взглядов в освещении новостей.
Автор – Hassan Mujtaba
