Новости: источники света
ASML игнорирует технологию производства чипов на основе ускорителя частиц, поддерживаемую Илоном Маском
ASML не спешит внедрять лазеры на свободных электронах (FEL) для EUV-литографии, несмотря на их потенциал. Компания продолжает совершенствовать собственные LPP-источники света, увеличивая их мощность и частоту генерации капель олова. Узнайте, почему FEL пока не готовы конкурировать с LPP в массовом производстве.

Китайская собственная экосистема EUV-метрологии начинает обретать форму
Изучите, как китайские стартапы и университеты формируют матрицу EUV-источников и метрологии для контроля на длине волны 13,5 нм — от плазменных до ускорительных и HHG-технологий, преодолевая зависимость от иностранных поставщиков.

Самое просматриваемое:
- Вот как использовать новую кнопку “Плюс”…
- Оверклокер обновил утилиту для разгона Hydra —…
- WatchGuard бьёт тревогу: критическая уязвимость…
- Bitcoin Depot оштрафован на $18,5 млн – сталкивается…
- Как настроить ComfyUI для генерации изображений ИИ…
- Результаты еженедельного опроса: Samsung Galaxy Z…
- Intel преодолела рубеж в миллион пластин,…
- США прикрыли платформу для хранения паролей, которой…
- ECARX берет управление бизнесом Flyme OS в свои руки…
- Глава Sonic Team Иидзука: Sega хотела отменить всю…