Собственный китайский станок для производства чипов в глубоком ультрафиолетовом (DUV) диапазоне, нашумевший вчера в СМИ, вряд ли станет угрозой для нидерландского производителя чипов ASML, сообщает Reuters. Компанией, стоящей за этим прорывом, является государственная Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, связанная с Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) и Shanghai Electric Group. SMEE возглавляет усилия Китая по разработке отечественного литографического оборудования в рамках попытки преодолеть западные санкции.
Китайский DUV-литографический станок требует дальнейших испытаний, сообщается в отчете
Хотя западные санкции против Китая охватывают новейшие системы экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, на более старые DUV-сканеры санкции не наложены. ASML является основным мировым производителем и поставщиком DUV-станков, и по некоторым оценкам, его контроль над рынком передового DUV-оборудования столь же абсолютен, как и контроль над рынком EUV. DUV-станки, в отличие от EUV-станков, используют более длинные волны света для печати схем чипов, а также линзы и лазеры.
В отличие от этого, производство EUV-сканеров является значительно более сложным процессом, поскольку меньшие длины волн ультрафиолетового света требуют от производителей оборудования создания вакуумной среды внутри станка.
Сообщения из Китая указывают, что Пекин ожидает начала производства EUV-станков в 2030 году, при этом, по сообщениям, ключевую роль в их разработке играют Huawei и другие компании.
Теперь, согласно Reuters, компанией, ответственной за производство китайского DUV-литографического станка, является Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Станок представляет собой иммерсионный сканер, использующий воду для печати схем, и, несмотря на это достижение, вряд ли составит конкуренцию нидерландскому гиганту по производству чипов ASML.
Китай, благодаря своей зависимости от ASML, остается одним из крупнейших клиентов ASML. Последние данные нидерландской фирмы показывают, что на Китай пришлось 16% выручки ASML, или 2,6 миллиарда евро в первом полугодии 2026 года. Это сделало Китай третьим по величине рынком ASML после Тайваня и Южной Кореи.
DUV-станки обычно используются для производства чипов, которые традиционно позиционируются как изготовленные по техпроцессам 7 нанометров и более. Хотя создание более совершенных чипов на старых станках возможно, это обычно требует процесса, называемого мультипаттернированием, который может привести к большему количеству дефектов и снижению выхода годных изделий. Эти ограничения снижают производительность станка и увеличивают затраты на производство кремниевой пластины.
Всегда имейте в виду, что редакции могут придерживаться предвзятых взглядов в освещении новостей.
Автор – Ramish Zafar
