Новости: литография

ASML планирует использовать новую систему CO2-лазера и генератор капель олова для повышения мощности источника EUV-света до 1000 Вт и производительности литографического оборудования до 330 пластин в час в 2030 году и далее. — tomshardware.com

ASML анонсировала сокращение 1700 рабочих мест для фокуса на инновациях на фоне рекордных финансовых результатов за 2025 год: чистая годовая выручка достигла €32,7 млрд. Компания ожидает дальнейшего роста в 2026 году благодаря взрывному спросу на EUV-системы со стороны производителей чипов, стимулируемому ИИ.

Intel сообщает об интересе заказчиков к техпроцессу 14A, хотя твердых обязательств пока нет. Компания активно работает с PDK версии 0.5 и ожидает решений клиентов во второй половине года для запуска мощностей к 2028 году.

Китай обязал производителей чипов использовать не менее 50% отечественного оборудования. Но из-за нехватки литографических инструментов, власти допускают иностранные аналоги. Анализ ситуации и объёмов производства.

Китай добился прорыва в производстве полупроводников, создав первый прототип EUV-литографии. Несмотря на использование старых компонентов ASML, ожидается, что к 2030 году страна сможет выпускать чипы, приближаясь к технологической независимости.

Мировая экономика зависит от монополии ASML и ее литографических машин стоимостью 400 миллионов долларов, которые являются узким местом для производства передовых чипов ИИ. Компания переходит на новую технологию High NA, что создает напряженность из-за высокой концентрации экономических рисков.

Квантовые компьютеры для оптимизации лазеров Trumpf! Компания исследует квантовые вычисления для улучшения CO2-лазеров, используемых в литографии ASML. Поддержка от Германии (€1.8 млн). Can quantum computing help with simulating quantum mechanics?